聚合物笔无掩模光刻纳米制造系统（polymerpenlithography）聚合物笔纳米无掩模光刻制造系统PPL,使用可达160000笔尖的阵列，采用蘸笔光刻DPN的方式，将待沉积的材料（墨水）浸蘸在笔尖阵列上，笔尖可控的与基底表面接触，从而在基底表面批量成型所需图案，加工纳米微米图案无需光掩膜，且在平方厘米范围内达到200纳米以下的分辨率。