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M系列光束笔尖阵列光刻系统时间:2019-03-07型号:厂商性质:代理商浏览量:136
聚合物笔无掩模光刻纳米制造系统(polymerpenlithography)聚合物笔纳米无掩模光刻制造系统PPL,使用可达160000笔尖的阵列,采用蘸笔光刻DPN的方式,将待沉积的材料(墨水)浸蘸在笔尖阵列上,笔尖可控的与基底表面接触,从而在基底表面批量成型所需图案,加工纳米微米图案无需光掩膜,且在平方厘米范围内达到200纳米以下的分辨率。
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